Schneller Blendenantrieb

 

Schneller Shutter-Antrieb für UHV-Anwendungen

Der Bereich Forschungstechnik entwickelte eine Acht-Quellen-Magnetron-Sputteranlage zur Erzeugung dünner Schichten. In ihr können Multilagenschichtsysteme in höchster Genauigkeit auf Wafern bis zu einem Durchmesser von 3“ abgeschieden werden. Ein entscheidendes Teilproblem bei der Entwicklung des OCTOPUS (OCTouple sOurce sPUttering System) stellte die exakte Steuerung der Beschichtungsdauer an den acht Quellen der Anlage dar. Von dieser Größe hängt wesentlich die Genauigkeit und Reproduzierbarkeit der Schichtdicke ab. Zur Lösung des Problems wurde ein hochdynamischer Antrieb zum Öffnen und Schließen der Sputterblenden entwickelt, der die rasche Bewegung eines pneumatischen Antriebs durch magnetischen Kraftschluss in das Vakuum überträgt. Die Vorteile der magnetischen Kopplung sind erstens der Verzicht auf störanfällige Vakuum-Schiebedurchführungen und zweitens das Fehlen der statischen Kraft, die aufgrund des Druckunterschied zwischen der Atmosphäre und dem Innern der Vakuumanlage auf die Schubstange wirkt.

pneumatik.jpg

Linearer Antrieb für den UHV-Einsatz

 

Gegenüber den sonst üblichen Faltenbalg- oder Gleitdichtungen zeichnet sich dieses Prinzip durch eine sehr hohe Dynamik, Dichtigkeit, Störunanfälligkeit und absolute Wartungsfreiheit aus. In der aktuellen Ausführung ist einen Hub von 250 mm realisiert, der in einer Zykluszeit von 200 ms geschaltet werden kann. Der Aufbau des Systems ist modular, so dass sich Hublänge, Kraft und Bewegungscharakteristik an die unterschiedlichsten Anwendungen im Hoch- und Ultrahochvakuum anpassen lassen. Die beschriebenen Vorzüge der pneumatischen UHV-Linearantriebe und ihr mittlerweile dreijähriger, störungsfreier Betrieb im IFW hat uns veranlasst dieses Produkt der Industrie zur Vermarktung anzubieten. Die Firma PINK UHV-Systems hat die Lizenz dazu erworben und bietet die neue Systemkomponente ihren Kunden an.