Auf dem 33. International Materials Research Congress (IMRC 2025), der vom 17.–21. August 2025 in Cancún, Mexiko, stattfand, widmete sich ein eigenes Symposium dem Thema „Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching: From Fundamentals to Emerging Technologies“ und stellte die neuesten Entwicklungen in der Materialforschung auf atomarer Ebene vor.

Im Mittelpunkt standen Durchbrüche bei der Atomic Layer Deposition (ALD) und dem Atomic Layer Etching (ALE) – zwei Schlüsseltechnologien, die eine präzise Kontrolle von Materialien im atomaren Maßstab ermöglichen. Mit der weltweit steigenden Nachfrage nach kleineren, schnelleren und energieeffizienteren Geräten gewinnen ALD und ALE zunehmend an Bedeutung für die Nanotechnologie der nächsten Generation, die Halbleiterfertigung und neuartige Funktionsmaterialien.

Zum ersten Mal wurde das Thema ALD und ALE auf der IMRC vorgestellt und fand dort große Beachtung. Die größte und renommierteste Materialforschungskonferenz Lateinamerikas zog über 2.000 Teilnehmende an. Das Programm bot Beiträge von international führenden Wissenschaftlerinnen und Wissenschaftlern und diente als lebendige Plattform für den internationalen Wissensaustausch und die wissenschaftliche Zusammenarbeit. Unter den eingeladenen Vortragenden war Prof. Anjana Devi (IMC-Direktorin am IFW), während das Symposium erfolgreich von Prof. Kornelius Nielsch (IMW-Direktor am IFW), Dr. Amin Bahrami und Dr. Jorge Luis Vázquez organisiert wurde.

Kontakt:
Dr. Amin Bahrami
eMail: a.bahrami[at]ifw-dresden.de

Pressekontakt:
Patricia Bäuchler
p.baeuchler[at]ifw-dresden.de